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可控硅模塊裝置中可能采用的4種過電流保護措施

來源:昆二晶發布日期:2018-08-18關注:-
       可控硅模塊產生過電流的原因多種多樣,當變流裝置內部元件損壞、控制或觸發系統發生故障、可逆傳動環流過大或逆變失敗、交流電壓過高、過低或缺相、負載過載等,均會引起裝置中電力電子器件的電流超過正常工作電流。
       由于可控硅模塊的過流能力比一般電氣設備低得多,因此,必須對可控硅模塊采取過電流保護措施。

可控硅模塊


       下面可控硅廠家昆二晶為大家講解可控硅模塊裝置中可能采用的4種過電流保護措施:
       1、交流進線串接漏抗大的整流變壓器利用電抗限制短路電流,但此種方法在交流電流較大時存在交流壓降。
       2、電檢測和過流繼電器電流檢測是用取樣電流與設定值進行比較,當取樣電流超過設定值時,比較器輸出信號使移相角增大或拉逆變以減少電流。有時須停機。
       3、直流快速開關對于變流裝置功率大且短路可能性較多的場合,可采用動作時間只有2ms的直流快速開關,它能夠先于快速熔斷器斷開而保護了可控硅模塊,但價格昂貴使用不多。
       4、快速熔斷器與普通熔斷器比較,快速熔斷器是專門用來保護電力半導體功率器件過電流的元件,它具有快速熔斷的特性,在流過6倍額定電流時其熔斷時間小于工頻的一個周期(20ms)。快速熔斷器可接在交流側、直流側或與可控硅橋臂串聯,后者直接效果較好。一般說來快速熔斷器額定電流值(有效值IRD)應小于被保護可控硅模塊的額定方均根通態電流(即有效值)ITRMS即1.57ITAV,同時要大于流過可控硅的實際通態方均根電流(即有效值)IRMS。
        以上就是昆二晶可控硅模塊為大家講解的可控硅模塊裝置中可能采用的4種過電流保護措施,更多詳情在昆二晶官網查看。
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